DHDM系列 直流磁控濺射鍍膜裝置參數(shù)【上海雙旭】
上海雙旭DHDM系列直流磁控濺射鍍膜裝置
產(chǎn)品參數(shù)
型號(hào)范圍：DHDM-XXX（根據(jù)腔體尺寸定制）
本底真空度：≤ 6.67×10-4 Pa (5×10-6 Torr)
工作真空度：0.1 Pa ~ 2.0 Pa (可調(diào))
濺射靶材：直流平面磁控靶，標(biāo)準(zhǔn)尺寸可選（如2英寸，4英寸等），材料兼容金屬、合金等導(dǎo)體
靶基距：可調(diào)范圍通常為 60mm ~ 120mm
直流電源：恒流/恒壓可調(diào)，功率范圍依型號(hào)而定（如 500W ~ 5kW），穩(wěn)定性 ≤ 1%
氣體流量控制：質(zhì)量流量計(jì)(MFC)控制Ar、O2、N2等氣體，精度 ±1% F.S.
基片臺(tái)：可旋轉(zhuǎn)/加熱（可選），溫度范圍：室溫 ~ 500℃（依配置）
腔體材料：不銹鋼，內(nèi)表面拋光
抽氣系統(tǒng)：分子泵組（或擴(kuò)散泵組）與機(jī)械泵組合
控制系統(tǒng)：PLC或微機(jī)自動(dòng)控制，具備手動(dòng)/自動(dòng)操作模式
使用注意事項(xiàng)
安全操作：設(shè)備為高電壓裝置，操作前必須確保接地良好，維護(hù)時(shí)斷開總電源并放電。
真空維護(hù)：保持腔體清潔，防止異物進(jìn)入。定期檢查密封圈，更換老化部件，確保真空度達(dá)標(biāo)。
靶材使用：避免靶材短路或過熱。更換靶材時(shí)需佩戴防護(hù)用具，防止污染靶面。
氣體安全：使用惰性氣體（如Ar）時(shí)保證通風(fēng)，若使用反應(yīng)氣體（如O2），需嚴(yán)格檢漏并配備安全防護(hù)設(shè)施。
冷卻系統(tǒng)：確保靶材和電源的冷卻水路暢通，水壓、水溫在額定范圍內(nèi)，防止過熱損壞。
電源規(guī)范：嚴(yán)禁超功率運(yùn)行直流電源，啟停應(yīng)遵循設(shè)備規(guī)定的順序，防止電弧放電損壞靶材。
日常檢查：定期檢查泵油、過濾器狀態(tài)，記錄運(yùn)行參數(shù)，及時(shí)發(fā)現(xiàn)異常。 |
