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 產(chǎn)品詳細(xì)
DHRP-1型 電感耦合射頻等離子體實(shí)驗(yàn)裝置對比【上海雙旭】 
產(chǎn)品名稱: DHRP-1型 電感耦合射頻等離子體實(shí)驗(yàn)裝置對比【上海雙旭】
產(chǎn)品型號(hào): 看標(biāo)題
產(chǎn)品報(bào)價(jià): 0
 
   
 產(chǎn)品詳細(xì):

DHRP-1型 電感耦合射頻等離子體實(shí)驗(yàn)裝置對比【上海雙旭】

 

上海雙旭 DHRP-1 型電感耦合射頻等離子體實(shí)驗(yàn)裝置介紹

產(chǎn)品概述

DHRP-1 型電感耦合射頻等離子體(ICP)實(shí)驗(yàn)裝置是上海雙旭電子有限公司生產(chǎn)的一款用于科研與教學(xué)的桌面式等離子體發(fā)生設(shè)備。該裝置通過射頻能量在低壓氣體中激發(fā)產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體,適用于材料表面處理、薄膜沉積、等離子體化學(xué)、光譜分析等基礎(chǔ)實(shí)驗(yàn)研究。

核心產(chǎn)品參數(shù)

參數(shù)類別 規(guī)格描述
射頻電源 頻率:13.56 MHz ± 0.05%;輸出功率:0 ~ 1000W 連續(xù)可調(diào);電源穩(wěn)定性:< ±1%
匹配網(wǎng)絡(luò) 自動(dòng)阻抗匹配器,匹配時(shí)間通常 < 2秒,匹配范圍:阻抗比 > 1000:1
反應(yīng)腔室 材質(zhì):石英或不銹鋼;結(jié)構(gòu):立式或臥式鐘罩型;尺寸:典型直徑200-300mm
真空系統(tǒng) 機(jī)械泵,極限真空:≤ 6.0×10-1 Pa;進(jìn)氣系統(tǒng):質(zhì)量流量計(jì)控制,多路氣體通道
控制系統(tǒng) PLC或微處理器控制,觸摸屏操作,具備功率、氣壓、流量等參數(shù)設(shè)定與實(shí)時(shí)監(jiān)控功能
冷卻系統(tǒng) 風(fēng)冷或水冷(針對射頻電源及匹配器)
工作氣體 Ar, O2, N2, CF4 等常見實(shí)驗(yàn)氣體
外形尺寸 約 1200mm (L) × 800mm (W) × 1600mm (H) (具體以實(shí)物為準(zhǔn))

與【上海雙旭】同類產(chǎn)品的對比要點(diǎn)

注:以下為基于上海雙旭產(chǎn)品線特征的通用對比分析,具體型號(hào)參數(shù)可能有所不同。

對比項(xiàng)目 DHRP-1 型(基礎(chǔ)實(shí)驗(yàn)型) 更高階型號(hào)(如DHRP系列其他型號(hào))
定位與用途 教學(xué)與基礎(chǔ)科研,側(cè)重于等離子體原理演示、基礎(chǔ)工藝實(shí)驗(yàn)。 高級(jí)科研與小型生產(chǎn),可能集成更復(fù)雜的工藝控制(如基片加熱、偏壓電源)。
射頻功率 通常為≤1000W,滿足大多數(shù)基礎(chǔ)實(shí)驗(yàn)需求。 可能提供更高功率(如2000W, 3000W),以獲得更高密度等離子體。
系統(tǒng)集成度 標(biāo)準(zhǔn)配置,滿足基本真空、進(jìn)氣、放電需求。 可能集成原位診斷接口(如Langmuir探針、光譜儀接口)、更復(fù)雜的樣品臺(tái)。
自動(dòng)化程度 基本自動(dòng)匹配與參數(shù)設(shè)置,手動(dòng)操作環(huán)節(jié)相對較多。 更高程度的自動(dòng)化工藝配方控制,數(shù)據(jù)記錄與分析功能更強(qiáng)。
腔體配置 標(biāo)準(zhǔn)石英腔體,結(jié)構(gòu)相對固定。 可能提供多種腔體選配(材質(zhì)、尺寸),模塊化設(shè)計(jì)更強(qiáng)。

使用注意事項(xiàng)

安全警告

  • 高壓與射頻輻射:設(shè)備工作時(shí)產(chǎn)生高壓及強(qiáng)射頻場。必須確保所有屏蔽罩和機(jī)箱門關(guān)閉,嚴(yán)禁在通電狀態(tài)下打開機(jī)箱或觸摸內(nèi)部線路,防止電擊和射頻輻射傷害。
  • 氣體安全:使用易燃、有毒或腐蝕性氣體(如H2, SiH4, CF4)時(shí),必須確保管路氣密性良好,并配備相應(yīng)的尾氣處理裝置,工作環(huán)境通風(fēng)需達(dá)標(biāo)。
  • 真空安全:遵循真空系統(tǒng)操作規(guī)程。破空前務(wù)必確認(rèn)腔體已充氣至大氣壓,防止真空狀態(tài)下強(qiáng)行開啟腔室造成損壞或人身傷害。
  • 高溫與紫外:等離子體區(qū)域會(huì)產(chǎn)生高溫和強(qiáng)紫外光,避免直視等離子體,實(shí)驗(yàn)后腔體及樣品可能高溫,需冷卻后再處理。

操作與維護(hù)須知

  • 規(guī)范操作:嚴(yán)格按照設(shè)備說明書規(guī)定的開機(jī)、關(guān)機(jī)順序操作。先通冷卻系統(tǒng),再啟動(dòng)真空和射頻系統(tǒng)。
  • 匹配器保護(hù):必須在低功率下啟動(dòng)射頻并完成自動(dòng)匹配,嚴(yán)禁在嚴(yán)重失配或空載狀態(tài)下長時(shí)間開啟大功率,以免損壞射頻電源和匹配器。
  • 腔體清潔:定期清潔反應(yīng)腔室和觀察窗,避免污染物影響等離子體均勻性和實(shí)驗(yàn)重復(fù)性。清潔時(shí)使用適當(dāng)溶劑,避免劃傷石英窗口。
  • 泵維護(hù):定期檢查并更換機(jī)械泵油,若處理腐蝕性氣體或生成粉末,需在泵入口加裝相應(yīng)的過濾或冷阱裝置。
  • 水源檢查:若采用水冷,需定期檢查水路是否通暢,有無漏水,確保水壓和水質(zhì)符合要求。
  • 記錄與校準(zhǔn):定期記錄關(guān)鍵運(yùn)行參數(shù),對質(zhì)量流量計(jì)、真空計(jì)等關(guān)鍵部件按建議周期進(jìn)行校準(zhǔn)。
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